微观机理分析分系统
微观机理分析分系统能够实现材料与器件的制备-空间环境作用-原位分析测试的全链条式研究,从微观层面上探究空间环境因素耦合作用下材料表面结构与性能的变化规律和物理机制。
系统分为互联平台和离线平台。互联平台可原位实现超高真空条件下材料制备-组织形貌-电子结构演化规律的分析与研究;离线平台可实现不同类型材料的多尺度制备,微观组织结构表征,磁光电热性能测试,电子结构分析与研究。将表面科学先进的分析手段与空间环境有机结合在一起,构建航天工程与空间技术之间的桥梁。
联系人:盛 捷
电话:18645085036
Email:shengjie@hit.edu.cn
子系统 | 技术指标 |
---|
系统核心指标 | 形貌分析空间分辨率:0.1nm ARPES系统能量分辨率:10meV
| 空间综合环境与表面效应研究子系统
|
空间综合环境与表面效应研究子系统 | 实现超高真空下材料的制备、表面原子结构、电子态与化学态的分析 |
真空度:10-8Pa 角分辨光发射能谱仪能量分辨率:10meV; 原子成像分辨率:0.1nm; 微区X射线光电子能谱仪空间分辨率:≤10μm 气体环境综合模拟舱:模拟原子氢、原子氧、电子、紫外等空间环境
| 角分辨光电子能谱仪 低温扫描隧道显微镜 气体综合环境模拟舱 微区X射线光电子能谱仪 脉冲激光分子束外延
|
材料物相与组织结构分析子系统 | 实现对材料微观结构、成分等信息的表征与分析 |
X射线衍射仪测角仪最小步长:0.0001度; 拉曼光谱仪光谱分辨率:≤0.5cm-1; 原子力显微镜分辨率:0.05nm; 磁畴观测分辨率:300nm;
| 高分辨X射线衍射仪 激光拉曼光谱仪 原子力显微镜 磁光克尔显微镜 真空紫外分光光度计
|
材料电光磁热性能分析子系统 | 实现材料热学、电学、磁学等性能与电子结构的测试与分析 |
物理性能最低测试温度2K; 磁学性能测试最大磁场14T; 温度场、磁场、直流电场、交流电场及光场多场耦合条件下半导体特性测量; 荧光光谱仪灵敏度:信噪比不小于12000:1;
| 物性测量系统 磁学性能测量系统 荧光光谱仪 铁电材料测试仪 多环境场耦合半导体测试性能系统 光探测磁共振仪
|
空间材料/半导体器件制备子系统 | 实现块体与薄膜材料、多晶与单晶材料以及半导体器件的多尺度可控制备 |
块体材料制备最高温度不低于2200℃; 薄膜材料制备最高温度不低于1150℃; 电子束曝光系统最小线宽为10nm; 原型器件制备刻蚀精度为1μm;
| 光学浮区法单晶炉 区熔法单晶炉 光电薄膜电子束蒸镀 光电功能材料制备系统 放电等离子体烧结炉 电子束曝光与原位测量系统 原型器件制备系统
|