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设备资料
超高真空磁控溅射镀膜仪(建设中)
发布人:王晓野  发布时间:2019-10-16   浏览次数:132

仪器名称:超高真空磁控溅射镀膜仪(建设中)


厂家:中科泰龙电子有限公司

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主要规格及技术参数

真空度:10-7 Pa    

2英寸溅射靶:至少4

衬底温度:800℃   

气路:氩气、氮气、氧气

水冷加热:可定制


主要功能及特色

微观机理分析分系统的重要薄膜及原型器件组成设备,用于空间环境应用条件下各类导电,非导电材料的制备,及原型器件的制备研发等,是空间综合环境表面效应研究子系统重要组成部分。